ScopeX G59萬(wàn)足金展廳/高純金專(zhuān)用檢測(cè)儀是專(zhuān)為萬(wàn)足金展廳和超高純金分析而設(shè)計(jì)的一款高精度分析儀器，作為浪聲科學(xué)貴金屬分析旗艦產(chǎn)品之一，ScopeX G59配備超大面積探測(cè)器具有超靈敏分析功能，大小不同的多種準(zhǔn)直器可分析極小樣品，超大樣品艙滿(mǎn)足各種造型樣品分析。
ScopeX G59采用全新的垂直光路系統(tǒng)，不僅能快速且無(wú)損地分析黃金(Au)含量，而且還能分析雜質(zhì)銀(Ag)和銅(Cu)。銀(Ag)銅(Cu)雜質(zhì)檢測(cè)極限≤ 10ppm。滿(mǎn)足從萬(wàn)足金（AU9999）到十萬(wàn)足金（AU99999）的分析需求。以0.001%的超高精度分析，成為萬(wàn)足金展廳和超高純金樣品分析的理想之選。
珠寶首飾 可快速且無(wú)損地分析黃金含量及雜質(zhì)銀、銅等元素，能確保珠寶首飾的成色和純度符合標(biāo)準(zhǔn)，廣泛應(yīng)用于首飾廠(chǎng)原材料檢驗(yàn)、生產(chǎn)過(guò)程控制、質(zhì)量控制及成品檢驗(yàn)，以及金店、珠寶展廳的貴金屬檢測(cè)等。 |  納米技術(shù) 能夠檢測(cè)高純金中痕量雜質(zhì)元素，為制造高純度金納米材料提供精準(zhǔn)的成分分析，助力研發(fā)高性能的納米傳感器、納米催化劑、功能性涂層等。 |
航空航天 在航空航天領(lǐng)域，ScopeX G59用于檢測(cè)高純金材料中的雜質(zhì)含量，確保其純度符合航空級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，以滿(mǎn)足航空航天部件對(duì)材料性能和可靠性的嚴(yán)格要求。 |
電子與半導(dǎo)體 高純金在電子元器件、芯片鍵合絲、高端觸點(diǎn)和封裝等核心部位的應(yīng)用極為廣泛。這些部位的雜質(zhì)含量會(huì)顯著影響電子元器件和集成電路的電學(xué)性能和長(zhǎng)期可靠性。因此，ScopeX G59在檢測(cè)微量雜質(zhì)元素、確保純度符合電子與半導(dǎo)體制造極高標(biāo)準(zhǔn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。 |
| 儀器構(gòu)型 | 臺(tái)式儀器 |
| 重量 | 46kg |
| 主機(jī)尺寸 | 570mm×400mm×400mm（L×W×H） |
| 樣品倉(cāng)尺寸 | 365mm×300mm×78mm（L×W×H） |
| 檢測(cè)范圍 | Al(鋁)—U(鈾) |
| 語(yǔ)言 | 中文、英語(yǔ)等多國(guó)語(yǔ)言 |
| 探測(cè)器 | 超大面積SDD探測(cè)器，為儀器帶來(lái)優(yōu)異的計(jì)數(shù)率和出色的能量分辨率。 |
| 光路結(jié)構(gòu) | 垂直光路 |
| 光管窗口 | 鈹窗 |
| 準(zhǔn)直器 | 0.5mm/1.0mm/2.0mm/3.0mm可自由切換，用戶(hù)可以根據(jù)分析需求和樣品特性靈活選擇合適的準(zhǔn)直器尺寸，以確保XRF儀器發(fā)揮最佳性能。 |
| 濾光片 | 配備多濾光片可自動(dòng)切換,可以顯著提升分析的質(zhì)量和效率，使得儀器能夠更好地適應(yīng)各種分析場(chǎng)景，為用戶(hù)提供更加精確和可靠的分析結(jié)果。 |
| 精度 | ±0.001%（99999金） |
| 電腦參數(shù) | I5四核 |
| 數(shù)據(jù)打印 | 藍(lán)牙打印機(jī) |
| 算法 | 融合了校正曲線(xiàn)法、基本參數(shù)法（FP法）等XRF分析方法，消除背景差異，減少分析誤差，提高檢測(cè)精準(zhǔn)度！ |
| 一鍵測(cè)試按鈕 | 有 |
| 攝像頭 | 高分辨率CMOS彩色攝像頭，500萬(wàn)像素 |
